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Eksma 线性偏振激光束的电动可变衰减器-2

简要描述:Eksma 线性偏振激光束的电动可变衰减器-2
具有ø10 mm透明光圈的电动可变衰减器,可以连续改变出射的s-pol和p-pol光束的强度比。 衰减器由薄膜偏振片,高性能波片和精密光机械组成。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-19
  • 访  问  量:31

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma 线性偏振激光束的电动可变衰减器-2

990-0071M


Eksma 线性偏振激光束的电动可变衰减器-2

具有ø10 mm透明光圈的电动可变衰减器,可以连续改变出射的s-pol和p-pol光束的强度比。 衰减器由薄膜偏振片,高性能波片和精密光机械组成。

产品介绍

这款电动可变衰减器/分束器包括特殊设计的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光机械适配器和精密光机械支架840-0193。薄膜布鲁斯特型偏振片被容纳在56°的偏光镜适配器中,该偏振片在56°时反射S偏振光,同时透射P偏振光。石英半波片安装在电动旋转平台960-0161中。可以通过旋转波片连续改变这两个光束的强度比,而不会改变其他光束参数。

可以在很宽的动态范围内控制出射光束的强度或其强度比。可以选择P偏振以获得较大的透射率,或者当透射光束发生较大衰减时可以反射高纯度s偏振。保持器840-0193允许将薄膜布鲁斯特型偏振片的入射角调整±2°,并获得较大的偏振对比度。

 

注意:控制器和电源应单独订购。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

适用于Nd:YAG激光应用

型号

波长

激光损伤阈值

配置

990-0071-355M

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-355M+CP

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

with controller & power supply

990-0071-532M

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-532M+CP

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

with controller & power supply

990-0071-1064M

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-1064M+CP

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

 
    

飞秒应用

型号

波长

激光损伤阈值

配置

990-0071-257M

257 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-257M+CP

257 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-266M

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-266M+CP

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-343M

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-343M+CP

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400M

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400M+CP

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400BM

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400BM+CP

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515M

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515M+CP

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515BM

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515BM+CP

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800M

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800M+CP

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800BM

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800BM+CP

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030M

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030M+CP

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030BM

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030BM+CP

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

适用于高功率飞秒应用

型号

波长

激光损伤阈值

配置

990-0071-257HM

257 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-257HM+CP

257 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-266HM

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-266HM+CP

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-343HM

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-343HM+CP

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400HM

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400HM+CP

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400HBM

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400HBM+CP

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515HM

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515HM+CP

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515HBM

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515HBM+CP

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800HM

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800HM+CP

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800HBM

780-820

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800HBM+CP

780-820

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030HM

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030HM+CP

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030HBM

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030HBM+CP

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

适用于Nd:YAG激光应用

通光孔径

10 mm

损害阈值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比

>1:200

 

飞秒应用

通光孔径

10 mm

损害阈值

大功率激光应用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

时间分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比

>1:200

这款电动可变衰减器/分束器包括特殊设计的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光机械适配器和精密光机械支架840-0193。薄膜布鲁斯特型偏振片被容纳在56°的偏光镜适配器中,该偏振片在56°时反射S偏振光,同时透射P偏振光。石英半波片安装在电动旋转平台960-0161中。可以通过旋转波片连续改变这两个光束的强度比,而不会改变其他光束参数。

可以在很宽的动态范围内控制出射光束的强度或其强度比。可以选择P偏振以获得较大的透射率,或者当透射光束发生较大衰减时可以反射高纯度s偏振。保持器840-0193允许将薄膜布鲁斯特型偏振片的入射角调整±2°,并获得较大的偏振对比度。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。 

这款电动可变衰减器/分束器包括特殊设计的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光机械适配器和精密光机械支架840-0193。薄膜布鲁斯特型偏振片被容纳在56°的偏光镜适配器中,该偏振片在56°时反射S偏振光,同时透射P偏振光。石英半波片安装在电动旋转平台960-0161中。可以通过旋转波片连续改变这两个光束的强度比,而不会改变其他光束参数。

可以在很宽的动态范围内控制出射光束的强度或其强度比。可以选择P偏振以获得较大的透射率,或者当透射光束发生较大衰减时可以反射高纯度s偏振。保持器840-0193允许将薄膜布鲁斯特型偏振片的入射角调整±2°,并获得较大的偏振对比度。

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