您好!欢迎访问上海攸亦光电科技有限公司网站!
全国服务咨询热线:

18861577951

当前位置:首页 > 产品中心 > > 光学元件 > Eksma 可变衰减器990-0072

Eksma 可变衰减器990-0072

简要描述:Eksma 可变衰减器990-0072
该可变衰减器/分束器由直径为50.8毫米的UV FS薄膜布鲁斯特型偏振片组成,该偏振片反射s偏振光,同时透射p偏振光,并安装在分束器安装座840-0056-12和石英零阶(光学接触)中。半波片直径25.4毫米(用于飞秒应用)或零级空气间隔半波片(用于高功率应用),其放置在旋转的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的线性偏振激光束中。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-04-23
  • 访  问  量:870

相关文章

Related Articles

详细介绍

品牌Eksma价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma 可变衰减器990-0072

适用于飞秒和ND:YAG激光脉冲的可变衰减器990-0072

Eksma 可变衰减器990-0072

可变衰减器/分束器由带偏振片支架的运动学支架制成,配有薄膜布鲁斯特型偏振片和石英半波片。

产品介绍

Ø将激光束分为两束手动调节的强度比,以68°角分开

Ø大动态范围

Ø透射光束偏移〜1毫米

Ø高光学损伤阈值

该可变衰减器/分束器由直径为50.8毫米的UV FS薄膜布鲁斯特型偏振片组成,该偏振片反射s偏振光,同时透射p偏振光,并安装在分束器安装座840-0056-12和石英零阶(光学接触)中。半波片直径25.4毫米(用于飞秒应用)或零级空气间隔半波片(用于高功率应用),其放置在旋转的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的线性偏振激光束中。

可以通过旋转波片来连续改变那两个分离且不同的偏振光束的强度比,而无需改变其他光束参数。可以在很宽的动态范围内控制出射光束的强度或其强度比。可以选择P偏振以获得较大的透射率,或者当透射光束发生较大衰减时可以反射高纯度s偏振。

840-0056-12运动学安装座允许将薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)调整为±4.5°,并获得较大的消光对比度。支架位于杆,杆支架和可移动基座820-0090上。

距桌面的光轴高度可以在78-88 mm的范围内调节。可以提供其他高度作为定制,以将标准杆和杆架更改为更高的高度。

产品型号

对于Nd:YAG激光脉冲

型号

波长

激光损伤阈值

990-0072-355

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0072-532

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0072-1064

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飞秒激光脉冲

型号

波长

激光损伤阈值

990-0072-266

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-343

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-400

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-515

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光应用

型号

波长

激光损伤阈值

990-0072-266H

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-343H

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-400H

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-515H

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800H

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm


适用于Nd:YAG激光应用

通光孔径

22 mm

损害阈值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振对比

>1:200


飞秒应用

通光孔径

22 mm

损害阈值

大功率激光应用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

时间分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振对比

>1:200

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
扫一扫,关注微信
地址:上海市宝山区高跃路176号511室 传真:
©2024 上海攸亦光电科技有限公司 版权所有 All Rights Reserved.  备案号:沪ICP备2021035236号-1