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详细介绍
| 品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma 线性偏振激光束的电动可变衰减器-1
990-0070M
Eksma 线性偏振激光束的电动可变衰减器-1
具有ø17 mm通光孔径的电动可变衰减器，由两个薄膜Brewster型偏振片和λ/ 2波片安装在精密的电动旋转安装座中。衰减器是为许多流行的激光波长设计的。
产品介绍
该电动可变衰减器/分束器包括特殊设计的光机械适配器和精密光机械支架840-0193。适配器中装有两个薄膜Brewster型偏振片，它们反射s偏振光同时透射p偏振光。石英半波片安装在电动旋转平台960-0161中。
可以通过旋转波片连续改变这两个光束的强度比，而不会改变其他光束参数。可以在很宽的动态范围内控制出射光束的强度或其强度比。可以选择P偏振以获得较大的透射率，或者当透射光束发生较大衰减时可以反射高纯度s偏振。保持器840-0193允许将薄膜布鲁斯特型偏振片的入射角调整±2°，并获得较大的偏振对比度。
注意：控制器和电源应单独订购。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品型号
适用于Nd：YAG激光应用
型号 | 波长 | 激光损伤阈值 | 配置 |
990-0070-355M | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-355M+CP | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
990-0070-532M | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-532M+CP | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
990-0070-1064M | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-1064M+CP | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
飞秒应用
型号 | 波长 | 激光损伤阈值 | 配置 |
990-0070-257M | 257 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-257M+CP | 257 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-266M | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-266M+CP | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-343M | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-343M+CP | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400M | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400M+CP | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400BM | 390-410 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400BM+CP | 390-410 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515M | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515M+CP | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515BM | 505-525 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515BM+CP | 505-525 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800M | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800M+CP | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800BM | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800BM+CP | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030M | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030M+CP | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030BM | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030BM+CP | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
适用于高功率飞秒应用
型号 | 波长 | 激光损伤阈值 | 配置 |
990-0070-257HM | 257 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-257HM+CP | 257 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-266HM | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-266HM+CP | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-343HM | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-343HM+CP | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400HM | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400HM+CP | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400HBM | 390-410 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400HBM+CP | 390-410 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515HM | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515HM+CP | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515HBM | 505-525 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515HBM+CP | 505-525 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800HM | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800HM+CP | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800HBM | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800HBM+CP | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030HM | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030HM+CP | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030HBM | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
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