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Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-3

简要描述:Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-3
薄透镜,具有333-353 nm范围的防反射镀膜。透镜可以提供电子束(+ AR343)或IBS(+ AR343HT)镀膜。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-17
  • 访  问  量:57

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma  FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-3


Eksma  FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-3

薄透镜,具有333-353 nm范围的防反射镀膜。透镜可以提供电子束(+ AR343)或IBS(+ AR343HT)镀膜。

产品介绍

Ø防反射镀膜的AR / AR @ 333-353 nm

Ø非常薄:边缘厚度从0.5到1.9mm不等

Ø中心厚度从1到3mm不等

Ø平凸或平凹类型

Ø也可以不加镀膜或带有不同的增透膜

Femtoline Thin AR在333-353 nm透镜上镀膜,适用于飞秒Ti:Sapphire激光脉冲的应用。 所展示的透镜可确保宽带飞秒Ti:蓝宝石激光脉冲的低群延迟色散。

产品型号

平凸透镜(ø50.8 mm)

型号

材料

类型

直径

CT

ET

焦距@ 800NM

反射

110-1505ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

14.0 mm

2.5 mm

75 mm

R<0.5%

110-1505ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

14.0 mm

2.5 mm

75 mm

R<0.2%

110-1509ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

10.3 mm

2.5 mm

100 mm

R<0.5%

110-1509ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

10.3 mm

2.5 mm

100 mm

R<0.2%

110-1511ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

7.4 mm

2.5 mm

150 mm

R<0.5%

110-1511ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

7.4 mm

2.5 mm

150 mm

R<0.2%

110-1515ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

6.1 mm

2.5 mm

200 mm

R<0.5%

110-1515ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

6.1 mm

2.5 mm

200 mm

R<0.2%

110-1519ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

4.9 mm

2.5 mm

300 mm

R<0.5%

110-1519ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

4.9 mm

2.5 mm

300 mm

R<0.2%

110-1523ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

4.3 mm

2.5 mm

400 mm

R<0.5%

110-1523ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

4.3 mm

2.5 mm

400 mm

R<0.2%

110-1527ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3.9 mm

2.5 mm

500 mm

R<0.5%

110-1527ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3.9 mm

2.5 mm

500 mm

R<0.2%

110-1545ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3.2 mm

2.5 mm

1000 mm

R<0.5%

110-1545ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3.2 mm

2.5 mm

1000 mm

R<0.2%

110-1550ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3.0 mm

2.5 mm

1500 mm

R<0.5%

110-1550ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3.0 mm

2.5 mm

1500 mm

R<0.2%

110-1555ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.9 mm

2.5 mm

2000 mm

R<0.5%

110-1555ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.9 mm

2.5 mm

2000 mm

R<0.2%

110-1566ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.7 mm

2.5 mm

3000 mm

R<0.5%

110-1566ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.7 mm

2.5 mm

3000 mm

R<0.2%

110-1568ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.7 mm

2.5 mm

4000 mm

R<0.5%

110-1568ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.7 mm

2.5 mm

4000 mm

R<0.2%

110-1567ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.6 mm

2.5 mm

5000 mm

R<0.5%

110-1567ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.6 mm

2.5 mm

5000 mm

R<0.2%

110-1570ET+AR343

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.6 mm

2.5 mm

6000 mm

R<0.5%

110-1570ET+AR343HT

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2.6 mm

2.5 mm

6000 mm

R<0.2%

 

 

材料

UVFS

 

表面质量

40-20表面光洁度 (MIL-PRF-13830B)

 

通光孔径

90% of the diameter

 

直径公差

+0.00, -0.12 mm

 

厚度公差

±0.2 mm

 

表面不规则

λ/8
@ 633 nm

 

同心度

3 arcmin

 

近轴焦距

±2% @ 800 nm

 

 

镀膜

技术

电子束多层电介质

附着力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂

通光孔径

超过中心直径的85%

损坏阈值

100 mJ / cm2、50 fsec脉冲,典型343 nm

镀膜表面平整度

通光孔径下633 nm处的λ/ 10

入射角

0度

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

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