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平面刻线衍射光栅(25x25x6mm)

简要描述:平面刻线衍射光栅(25x25x6mm)
制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

  • 产品品牌:其他品牌
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-01-04
  • 访  问  量:559

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品牌其他品牌价格区间面议
组件类别其他应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

平面刻线衍射光栅(25x25x6mm)


平面刻线衍射光栅(25x25x6mm)

制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光洁度:

60-400

尺寸误cha:

±0.5 mm

厚度公cha:

±0.5mm

效率:

60%~80% @闪耀波长

有效孔径:

90%

损伤阈值:

350mJ/cm2@200ns脉冲激光

40W/cm2(CW)连续激光


产品编号

产品名称

尺寸

刻线数

闪耀波长

闪耀角

378518

刻线式光栅 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378519

刻线式光栅 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

500nm

4°18'

378520

刻线式光栅 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378527

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

250nm

4°18

378528

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378529

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378538

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378539

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378540

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378541

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378542

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378551

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

250nm

8°37'

378552

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378553

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378561

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378562

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378563

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378564

刻线式光栅 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'



制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

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