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Eksma UVFS激光线反射镜-4

简要描述：Eksma UVFS激光线反射镜-4
高反射率（&amp;amp;amp;amp;amp;gt; 99％反射率）激光线镜由石英制成，并涂有多层电介质或IBS镀膜。适用于UV，VIS和NIR激光器。

产品品牌：Eksma
厂商性质：代理商
更新时间：2021-03-22
访问量：509

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LAYERTEC非球面光学元件介绍

详细介绍

品牌	Eksma	价格区间	面议
组件类别	光学元件	应用领域	医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma UVFS激光线反射镜-4

高反射率（> 99％反射率）激光线镜由石英制成，并涂有多层电介质或IBS镀膜。适用于UV，VIS和NIR激光器。

Eksma UVFS激光线反射镜-4

产品介绍

Ø高反射镜（反射率> 99％）

Ø设计用于45°或0°入射角

Ø由紫外线等级的熔融石英制成

Ø对于由BK7材料制成的激光线镜，请单击此处

激光线反射镜是介电反射镜，在规定的激光波长下具有优良性能。我们的激光镜由石英制成，并涂有多层电介质或IBS镀膜。对于低波前畸变，低散射和高损伤阈值，镜子亚表面的高抛光质量也很重要。

介电紫外熔融石英激光线镜在UV，VIS和NIR光谱中涵盖了广泛的激光应用。

EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

UVFS; ø50.8x8 mm

型号	D	ET	R, % (S+P)/2	AOI	波长	应用
045-0240	50.8 mm	8 mm	99.0%	45°	244-248 nm	KrF
045-0240-i0	50.8 mm	8 mm	99.0%	0°	244-248 nm	KrF
045-0260	50.8 mm	8 mm	99.0%	45°	262-266 nm	Nd:YAG 4H
045-0260-i0	50.8 mm	8 mm	99.0%	0°	262-266 nm	Nd:YAG 4H
045-0266	50.8 mm	8 mm	99.0%	45°	257-275 nm	Ti:Sa 3H
045-0266-i0	50.8 mm	8 mm	99.0%	0°	257-275 nm	Ti:Sa 3H
045-0300	50.8 mm	8 mm	99.2%	45°	308 nm	XeCl
045-0300-i0	50.8 mm	8 mm	99.2%	0°	308 nm	XeCl
045-0325	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	325 nm	HeCd
045-0325-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	325 nm	HeCd
045-0343	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	333-353 nm	Yb:KGW/KYW 3H
045-0343-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	333-353 nm	Yb:KGW/KYW 3H
045-0347	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	347 nm	Ruby
045-0347-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	347 nm	Ruby
045-0350	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0350-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0350T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0350T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	351-361 nm	Nd:YAG 3H
045-0400	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	380-420 nm	Ti:Sa 2H
045-0400-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	380-420 nm	Ti:Sa 2H
045-0515	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	500-530 nm	Yb:KGW/KYW 2H
045-0515-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	500-530 nm	Yb:KGW/KYW 2H
045-0530	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0530-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0530T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0530T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	527-532 nm	Nd:YAG 2H
045-0800	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-0800-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-0800T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-0800T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	760-840 nm	Ti:Sa 1H
045-1030	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1030-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1030T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1030T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	1000-1060 nm	Yb:KGW/KYW 1H
045-1060	50.8 mm	8 mm	99.5%	45°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H
045-1060-i0	50.8 mm	8 mm	99.8%	0°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H
045-1060T12HHR	50.8 mm	12 mm	99.9%	45°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H
045-1060T12HHR-i0	50.8 mm	12 mm	99.9%	0°	1047-1064 nm	Nd:YAG 1H

基材

材料	UV级熔融石英
S1表面平整度	λ/10 typical at 633 nm
S1表面质量	20-10表面光洁度 (MIL-PRF-13830B)
S2表面质量	简单抛光
直径公差	+ 0.00 mm, - 0.12 mm
厚度公差	± 0.25 mm
楔	< 3 minutes
倒角	0.3 mm at 45° typical

镀膜

技术	电子束多层电介质或离子束溅射
附着力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂
通光孔径	超过中心直径的85％
损坏阈值	6 J / cm2，8纳秒脉冲，典型值1064 nm
镀膜表面平整度	通光孔径下633 nm处的λ/ 10
入射角	0°或45°

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