详细介绍
品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
---|---|---|---|
组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma UVFS激光线反射镜-4
高反射率(> 99%反射率)激光线镜由石英制成,并涂有多层电介质或IBS镀膜。适用于UV,VIS和NIR激光器。
Eksma UVFS激光线反射镜-4
产品介绍
Ø高反射镜(反射率> 99%)
Ø设计用于45°或0°入射角
Ø由紫外线等级的熔融石英制成
Ø对于由BK7材料制成的激光线镜,请单击此处
激光线反射镜是介电反射镜,在规定的激光波长下具有优良性能。我们的激光镜由石英制成,并涂有多层电介质或IBS镀膜。对于低波前畸变,低散射和高损伤阈值,镜子亚表面的高抛光质量也很重要。
介电紫外熔融石英激光线镜在UV,VIS和NIR光谱中涵盖了广泛的激光应用。
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品型号
UVFS; ø50.8x8 mm
型号 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波长 | 应用 |
045-0240 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 244-248 nm | KrF |
045-0240-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 244-248 nm | KrF |
045-0260 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
045-0260-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
045-0266 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
045-0266-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
045-0300 | 50.8 mm | 8 mm | 99.2% | 45° | 308 nm | XeCl |
045-0300-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.2% | 0° | 308 nm | XeCl |
045-0325 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 325 nm | HeCd |
045-0325-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 325 nm | HeCd |
045-0343 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
045-0343-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
045-0347 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 347 nm | Ruby |
045-0347-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 347 nm | Ruby |
045-0350 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0400 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
045-0400-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
045-0515 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
045-0515-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
045-0530 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0800 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-1030 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1060 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
基材
材料 | UV级熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面质量 | 20-10表面光洁度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面质量 | 简单抛光 |
直径公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
镀膜
技术 | 电子束多层电介质或离子束溅射 |
附着力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过中心直径的85% |
损坏阈值 | 6 J / cm2,8纳秒脉冲,典型值1064 nm |
镀膜表面平整度 | 通光孔径下633 nm处的λ/ 10 |
入射角 | 0°或45° |
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品咨询