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Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜

简要描述:Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜
具有高反射率的宽带和激光线介电反射镜(在规定的较小范围内大于99%),可在0°至45°的所有入射角下工作。宽带和激光线反射镜适用于280-400 nm,349-355 nm,400-750 nm,524-532 nm,532 + 1064 nm,750-1100 nm,1047-1064 nm波长范围。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-22
  • 访  问  量:39

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜


Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜

宽带介电反射镜在280-400 nm,400-750 nm,750-1100 nm波长范围内从0°到45°的所有入射角均可工作。

产品介绍

Ø对于(s + p)/ 2偏振,Ravg> 99%,可在0至45°的所有入射角下工作

Ø激光损伤阈值> 1 J / cm2,脉冲为8纳秒,典型值为1064 nm

具有高反射率的宽带和激光线介电反射镜(在规定的较小范围内大于99%),可在0°至45°的所有入射角下工作。宽带和激光线反射镜适用于280-400 nm,349-355 nm,400-750 nm,524-532 nm,532 + 1064 nm,750-1100 nm,1047-1064 nm波长范围。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

基材: UVFS

型号

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波长

041-0257-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

257 nm

042-0257-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

257 nm

086-2840-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

280-400 nm

082-2840-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

280-400 nm

041-0350-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.5%

0-45°

343-355 nm

042-0350-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.5%

0-45°

343-355 nm

086-4075-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

082-4075-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

085-4075-i0-45

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

041-0530HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.9%

0-45°

524-532 nm

042-0530HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.9%

0-45°

524-532 nm

061-5306HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.7%

0-45°

532+1064 nm

062-5306HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.7%

0-45°

532+1064 nm

086-7511-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

082-7511-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

085-7511-i0-45

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

041-0800HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.9%

0-45°

760-840 nm, Low GDD

042-0800HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.9%

0-45°

760-840 nm, Low GDD

041-1060HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.7%

0-45°

1047-1064 nm

042-1060HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.7%

0-45°

1047-1064 nm

基材: BK7

型号

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波长

076-4076-i0-45

BK7

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

072-4075-i0-45

BK7

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

075-4075-i0-45

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

076-7511-i0-45

BK7

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

072-7511-i0-45

BK7

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

075-7511-i0-45

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

基材

材料

UV级熔融石英

S1表面平整度

λ/10 typical at 633 nm

S1表面质量

20-10 表面光洁度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面质量

简单抛光

直径公差

+ 0.00 mm, - 0.12 mm

厚度公差

± 0.25 mm

< 3 minutes

倒角

0.3 mm at 45° typical

镀膜

技术

电子束多层电介质

附着力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂

通光孔径

超过中心直径的85%

损伤阈值

1 J / cm2,8纳秒脉冲,典型值1064 nm

镀膜表面平整度

633 nm处的λ/ 10超过直径的85%

入射角

从0°到45°

 EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

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