Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜

Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜

Eksma 0至45°AOI的宽带和激光线反射镜

宽带介电反射镜在280-400 nm，400-750 nm，750-1100 nm波长范围内从0°到45°的所有入射角均可工作。

产品介绍

Ø对于（s + p）/ 2偏振，Ravg> 99％，可在0至45°的所有入射角下工作

Ø激光损伤阈值> 1 J / cm2，脉冲为8纳秒，典型值为1064 nm

具有高反射率的宽带和激光线介电反射镜（在规定的较小范围内大于99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。宽带和激光线反射镜适用于280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波长范围。

EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

基材: UVFS

基材: BK7

基材

镀膜

 EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。