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Eksma 部分反射镀膜

简要描述:Eksma 部分反射镀膜
部分反射镀膜是耐用的多层介电镀膜,旨在用于有效的光束分离以及激光腔中的输出耦合。它们被设计用于大功率激光应用。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-22
  • 访  问  量:47

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma 部分反射镀膜


Eksma 部分反射镀膜

部分反射镀膜是耐用的多层介电镀膜,旨在用于有效的光束分离以及激光腔中的输出耦合。

产品描述

部分反射镀膜是耐用的多层介电镀膜,旨在用于有效的光束分离以及激光腔中的输出耦合。它们被设计用于大功率激光应用。

我们提供适用于不同波长和反射值的一系列标准局部反射镀膜。请与我们联系以获取其他波长,AOI或反射值。

请发送带有镀膜和基材代码的定制产品请求,以获取报价。对于基材,请参阅我们的标准未镀膜激光窗口部分。

我们还提供标准的分束器和输出耦合器,可快速交付:

ØNd:YAG LaserLine分束器(1064 nm,532 nm,355 nm,266 nm)

ØFemtoline分束器(1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm)

ØFemtoline宽带分束器(720-880 nm,750-850 nm)

ØNd:YAG LaserLine输出耦合器(1064 nm nm)

ØFemtoline输出耦合器(1030 nm,800 nm)

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

镀膜型号

波长

反射率

推荐

损伤

AOI=0

AOI=45


nm


%

基材

阈值

2012-i0

2012-i45

248

25±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2015-i0

2015-i45

248

50±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2017-i0

2017-i45

248

75±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2022-i0

2022-i45

266

25±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2025-i0

2025-i45

266

50±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2027-i0

2027-i45

266

75±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2032-i0

2032-i45

308

25±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2035-i0

2035-i45

308

50±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2037-i0

2037-i45

308

75±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2042-i0

2042-i45

355

25±3

UVFS

2 J/cm2
in 10 ns

2045-i0

2045-i45

355

50±3

UVFS

2 J/cm2
in 10 ns

2047-i0

2047-i45

355

75±3

UVFS

2 J/cm2
in 10 ns

2052-i0

2052-i45

400

25±3

UVFS

3 J/cm2
in 10 ns

2055
-i0

2055
-i45

400

50±3

UVFS

3 J/cm2
in 10 ns

2057-i0

2057-i45

400

75±3

UVFS

3 J/cm2
in 10 ns

2062-i0

2062-i45

532

25±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2065-i0

2065-i45

532

50±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2067-i0

2067-i45

532

75±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2069-i0

2069-i45

633

25±3

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

2070-i0

2070-i45

633

50±3

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

2071-i0

2071-i45

633

75±3

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

2072-i0

2072-i45

800

25±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2075-i0

2075-i45

800

50±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2077-i0

2077-i45

800

75±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2079-i0

2079-i45

852

25±3

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

2080-i0

2080-i45

852

50±3

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

2081-i0

2081-i45

852

75±3

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

2082-i0

2082-i45

1064

25±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2085-i0

2085-i45

1064

50±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2087-i0

2087-i45

1064

75±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2089-i0

2089-i45

1550

25±3

UVFS, BK7

2 J/cm2
in 10 ns

2090-i0

2090-i45

1550

50±3

UVFS, BK7

2 J/cm2
in 10 ns

2091-i0

2091-i45

1550

75±3

UVFS, BK7

2 J/cm2
in 10 ns

 EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

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