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Eksma FEMTOLINE薄BBAR透镜700-900 NM-1

简要描述:Eksma FEMTOLINE薄BBAR透镜700-900 NM-1
在700-900 nm波长范围内具有宽带减反射镀膜的薄透镜。透镜可以提供电子束(+ BBAR)或IBS(+ ARB800HT)镀膜。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-17
  • 访  问  量:25

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma FEMTOLINE薄BBAR透镜700-900 NM-1



Eksma FEMTOLINE薄BBAR透镜700-900 NM-1

在700-900 nm波长范围内具有宽带减反射镀膜的薄透镜。透镜可以提供电子束(+ BBAR)或IBS(+ ARB800HT)镀膜。

产品介绍

Ø宽带增透膜AR / AR @ 700-900 nm

Ø非常薄的厚度:边缘厚度在0.5到1.9mm之间变化

Ø中心厚度从1到3mm不等

Ø平凸或平凹类型

Ø未镀膜,增透膜在760-840 nm处或UBBAR镀膜在350-900 nm之间

Femtoline Thin BBAR在700-900 nm透镜上镀膜,适用于宽带飞秒Ti:Sapphire激光脉冲的应用。所展示的透镜可确保宽带飞秒Ti:蓝宝石激光脉冲的低群延迟色散。

产品型号

平凸透镜(ø12.7mm)

型号

材料

类型

直径

CT

ET

焦距@ 800NM

反射

110-1106ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

2.5 mm

1.0 mm

30 mm

R<0.5%

110-1106ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

2.5 mm

1.0 mm

30 mm

R<0.1%

110-1108ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.8 mm

0.7 mm

40 mm

R<0.5%

110-1108ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.8 mm

0.7 mm

40 mm

R<0.1%

110-1109ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.9 mm

1.0 mm

50 mm

R<0.5%

110-1109ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.9 mm

1.0 mm

50 mm

R<0.1%

110-1111ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.8 mm

1.2 mm

75 mm

R<0.5%

110-1111ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.8 mm

1.2 mm

75 mm

R<0.1%

110-1115ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.5 mm

0.9 mm

100 mm

R<0.5%

110-1115ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.5 mm

0.9 mm

100 mm

R<0.1%

110-1117ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.4 mm

1.0 mm

125 mm

R<0.5%

110-1117MT+BBAR

UVFS

pl/cx

12.5 mm

1.4 mm

1.0 mm

125 mm

R<0.5%

110-1117ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.4 mm

1.0 mm

125 mm

R<0.1%

110-1119ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.5 mm

1.2 mm

150 mm

R<0.5%

110-1119MT+BBAR

UVFS

pl/cx

12.5 mm

1.5 mm

1.2 mm

150 mm

R<0.5%

110-1119ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.5 mm

1.2 mm

150 mm

R<0.1%

110-1121ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.2 mm

1.0 mm

175 mm

R<0.5%

110-1121ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.2 mm

1.0 mm

175 mm

R<0.1%

110-1123ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.2 mm

1.0 mm

200 mm

R<0.5%

110-1123MT+BBAR

UVFS

pl/cx

12.5 mm

1.2 mm

1.0 mm

200 mm

R<0.5%

110-1123ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.2 mm

1.0 mm

200 mm

R<0.1%

110-1126ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

250 mm

R<0.5%

110-1126ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

250 mm

R<0.1%

110-1129ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

300 mm

R<0.5%

110-1129MT+BBAR

UVFS

pl/cx

12.5 mm

1.1 mm

1.0 mm

300 mm

R<0.5%

110-1129ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

300 mm

R<0.1%

110-1133ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

400 mm

R<0.5%

110-1133ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

400 mm

R<0.1%

110-1135ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

450 mm

R<0.5%

110-1135ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

450 mm

R<0.1%

110-1137ET+BBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

500 mm

R<0.5%

110-1137ET+ARB800HT

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

500 mm

R<0.1%

 材料

UVFS

表面质量

40-20表面光洁度 (MIL-PRF-13830B)

通光孔径

90% of the diameter

直径公差

+0.00, -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

表面不规则

λ/8
@ 633 nm

同心度

3 arcmin

近轴焦距

±2% @ 800 nm

镀膜

技术

电子束多层电介质

附着力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂

通光孔径

超过中心直径的85%

损坏阈值

50 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型800 nm

镀膜表面平整度

通光孔径下633 nm处的λ/ 10

入射角

0度

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

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