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Eksma FEMTOLINE激光分束器-5

简要描述:Eksma FEMTOLINE激光分束器-5
Femtoline激光分束器镀膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光损伤阈值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型值为800 nm。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-17
  • 访  问  量:49

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma FEMTOLINE激光分束器-5


Eksma FEMTOLINE激光分束器-5

Femtoline激光分束器镀膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光损伤阈值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型值为800 nm。

分束器将平均偏振激光束分成彼此分开90°的两束。

标准基板厚度为3mm。如果您需要更薄的基板,请从Precision Thin Round Windows中选择。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

产品型号

波长-800 nm

型号

材料

尺寸

波长

反射

透射

偏振

AOI

041-7720A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

20±3%

80±3%

Average

45°

041-7720P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

20±3%

80±3%

P-pol

45°

041-7720S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

20±3%

80±3%

S-pol

45°

041-7730A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

30±3%

70±3%

Average

45°

041-7730P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

30±3%

70±3%

P-pol

45°

041-7730S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

30±3%

70±3%

S-pol

45°

041-7750A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

50±3%

50±3%

Average

45°

041-7750P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

50±3%

50±3%

P-pol

45°

041-7750S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

50±3%

50±3%

S-pol

45°

041-7770A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

70±3%

30±3%

Average

45°

041-7770P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

70±3%

30±3%

P-pol

45°

041-7770S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

70±3%

30±3%

S-pol

45°

041-7780A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

80±3%

20±3%

Average

45°

041-7780P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

80±3%

20±3%

P-pol

45°

041-7780S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

800 nm

80±3%

20±3%

S-pol

45°

042-7720A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

20±3%

80±3%

Average

45°

042-7720P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

20±3%

80±3%

P-pol

45°

042-7720S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

20±3%

80±3%

S-pol

45°

042-7725P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

25±3%

75±3%

P-pol

45°

042-7730A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

30±3%

70±3%

Average

45°

042-7730P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

30±3%

70±3%

P-pol

45°

042-7730S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

30±3%

70±3%

S-pol

45°

042-7750A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

50±3%

50±3%

Average

45°

042-7750P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

50±3%

50±3%

P-pol

45°

042-7750S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

50±3%

50±3%

S-pol

45°

042-7770A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

70±3%

30±3%

Average

45°

042-7770P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

70±3%

30±3%

P-pol

45°

042-7770S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

70±3%

30±3%

S-pol

45°

042-7780A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

80±3%

20±3%

Average

45°

042-7780P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

80±3%

20±3%

P-pol

45°

042-7780S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

800 nm

80±3%

20±3%

S-pol

45°

045-7720A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

20±3%

80±3%

Average

45°

045-7720P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

20±3%

80±3%

P-pol

45°

045-7720S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

20±3%

80±3%

S-pol

45°

045-7730A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

30±3%

70±3%

Average

45°

045-7730P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

30±3%

70±3%

P-pol

45°

045-7730S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

30±3%

70±3%

S-pol

45°

045-7750A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

50±3%

50±3%

Average

45°

045-7750P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

50±3%

50±3%

P-pol

45°

045-7750S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

50±3%

50±3%

S-pol

45°

045-7770A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

70±3%

30±3%

Average

45°

045-7770P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

70±3%

30±3%

P-pol

45°

045-7770S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

70±3%

30±3%

S-pol

45°

045-7780A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

80±3%

20±3%

Average

45°

045-7780P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

80±3%

20±3%

P-pol

45°

045-7780S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800 nm

80±3%

20±3%

S-pol

45°

 

 

 

基材

材料

UV级熔融石英

S1表面平整度

633 nm时为λ/ 10

S1表面质量

20-10表面光洁度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

633 nm时为λ/ 10

S2表面质量

20-10表面光洁度(MIL-PRF-13830B)

直径公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

平行性

30弧秒

倒角

在45°典型值为0.3mm

 

镀膜

技术

电子束多层电介质

附着力和耐久性

符合MIL-C-675A。 不溶于实验室溶剂

通光孔径

超过中心直径的85%

入射角

45±3°

背面防反射镀膜

R <0.5%

激光损伤阈值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型800 nm

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

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