详细介绍
品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
---|---|---|---|
组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma 适用于皮秒应用的高功率激光反射镜
Eksma 适用于皮秒应用的高功率激光反射镜
高损伤阈值激光反射镜专为纳秒级激光应用而设计。使用的IBS镀膜技术生产。
产品介绍
新型高损伤阈值激光镜专为飞秒激光器设计。这些反射使用的IBS镀膜技术生产。反射镜的设计波长为515 nm或1030 nm,反射值R> 99.9%。
在ISO标准21254-2 1000-on-1条件下,以10 ps脉冲,20 kHz的反射镜设计波长测量激光诱导的损伤阈值。
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品型号
设计波长 - 343 nm, LIDT @ 10 ps, 50 kHz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.9 J/cm² |
041-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.9 J/cm² |
042-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.9 J/cm² |
042-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.9 J/cm² |
045-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.9 J/cm² |
045-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.8% | >0.9 J/cm² |
设计波长 - 515 nm, LIDT @ 10 ps, 20 kHz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-0515PHR | 515 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >1 J/cm² |
041-0515PUHR | 515 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >2.5 J/cm² |
041-0515PHR-i0 | 515 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >1 J/cm² |
041-0515PUHR-i0 | 515 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >2.5 J/cm² |
041-0515PHR-i0-45 | 515 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >1 J/cm² |
042-0515PHR | 515 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >1 J/cm² |
042-0515PUHR | 515 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >2.5 J/cm² |
042-0515PHR-i0 | 515 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >1 J/cm² |
042-0515PUHR-i0 | 515 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >2.5 J/cm² |
042-0515PHR-i0-45 | 515 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >1 J/cm² |
045-0515PHR | 515 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >1 J/cm² |
045-0515PUHR | 515 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >2.5 J/cm² |
045-0515PHR-i0 | 515 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >1 J/cm² |
045-0515PUHR-i0 | 515 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >2.5 J/cm² |
045-0515PHR-i0-45 | 515 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >1 J/cm² |
设计波长 - 1030 nm, LIDT @ 10 ps, 20 kHz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-1030PHR | 1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
041-1030PUHR | 1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >3 J/cm² |
041-1030PHR-i0 | 1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
041-1030PUHR-i0 | 1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >3 J/cm² |
041-1030PHR-i0-45 | 1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
042-1030PHR | 1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
042-1030PUHR | 1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >3 J/cm² |
042-1030PHR-i0 | 1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
042-1030PUHR-i0 | 1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >3 J/cm² |
042-1030PHR-i0-45 | 1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
045-1030PHR | 1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
045-1030PUHR | 1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >3 J/cm² |
045-1030PHR-i0 | 1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
045-1030PUHR-i0 | 1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >3 J/cm² |
045-1030PHR-i0-45 | 1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >1.5 J/cm² |
设计波长 - 515+1030 nm, LIDT @ 10 ps, 50 kHz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
061-5103PHR | 515+1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >1 J/cm² |
061-5103PHR-i0 | 515+1030 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >1 J/cm² |
062-5103PHR | 515+1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >1 J/cm² |
062-5103PUHR | 515+1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% | >2 J/cm² |
062-5103PHR-i0 | 515+1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >1 J/cm² |
062-5103PUHR-i0 | 515+1030 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% | >2 J/cm² |
065-5103PHR | 515+1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >1 J/cm² |
065-5103PHR-i0 | 515+1030 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >1 J/cm² |
基材
材料 | UV级熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 at 633 nm |
S1表面质量 | 20-10 表面光洁度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面质量 | 简单抛光 |
直径公差 | +0.00 mm / -0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
楔 | < 3 min |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
镀膜
技术 | 离子束溅射(IBS) |
附着力和耐久性 | 根据MIL-C-675A,不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过直径的85% |
镀膜表面平整度 | 通光孔径下633 nm处的λ/ 10 |
激光引起的损伤阈值 | 在设计波长下测量,脉冲为10 ps,频率为20 kHz |
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
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