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详细介绍
| 品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma 适用于飞秒应用的高功率激光镜
Eksma 适用于飞秒应用的高功率激光反射镜
高损伤阈值激光镜，专为飞秒激光器设计。使用的IBS镀膜技术生产。
产品介绍
新型高损伤阈值激光镜专为飞秒激光器设计。这些镜子使用的IBS镀膜技术生产。反射镜的设计波长包括515 nm，800 nm，1030 nm和宽带720-880 nm范围，反射值R> 99.8％。
在ISO标准21254-2 1000-on-1条件下，以50 fs脉冲，100 Hz在反射镜设计波长下测量激光诱导的损伤阈值。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品型号
设计波长 - 343 nm, LIDT @ 343 nm, 200 fs, 100 Hz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
041-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
设计波长 - 500-530 nm, LIDT @ 515 nm, 50 fs, 100 Hz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-0515T6HHR | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0515T6HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
设计波长 - 760-840 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-0800T6HHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800HHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12HHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
设计波长 - 720-880 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
081-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
081-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
设计波长 - 1000-1060 nm, LIDT @ 1030 nm, 50 fs, 100 Hz
型号 | 波长 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光损伤阈值 |
041-1030T6HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
041-1030T6HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
基材
材料 | UV级熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 at 633 nm |
S1表面质量 | 20-10表面光洁度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面质量 | 简单抛光 |
直径公差 | +0.00 mm / -0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
楔 | < 3 min |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
镀膜
技术 | 离子束溅射（IBS） |
附着力和耐久性 | 根据MIL-C-675A，不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过直径的85％ |
镀膜表面平整度 | 透明孔径下633 nm处的λ/ 10 |
激光引起的损伤阈值 | 在设计波长，50 fs脉冲，100 Hz下测量 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
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