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详细介绍
| 品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma 高反射镀膜
Eksma 高反射镀膜
介电多层高反射率镀膜是用于在AOI = 0°或45°时在特定的激光线波长处实现较大可能反射率的叠层。
产品介绍
多层介电高反射率（HR）镀膜是用于在AOI = 0°或45°时在特定的激光线波长处实现较高反射率的叠层。我们提供226 nm至2100 nm的HR激光线镀膜。
激光线高反射率镀膜适用于外部光束处理应用，在这些应用中，甚至可能会有很小的损失。
请发送带有镀膜和基材代码的定制产品请求，以获取报价。对于基材，请参阅我们的标准未镀膜激光窗口部分。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品型号
高反射率激光线镀膜
镀膜型号 | 波长 | 反射率（％） | 推荐 | 损伤 | ||
AOI=0° |
|
|
| AOI=45° | 基材 | 阈值 |
1007-i0 | 1007-i45 | 226 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1009-i0 | 1009-i45 | 248 | >99 | >99 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1011-i0 | 1011-i45 | 266 | >99.5 | >99 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1013-i0 | 1013-i45 | 308 | >99.5 | >99.2 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1015-i0 | 1015-i45 | 325 | >99.5 | >99.2 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1017-i0 | 1017-i45 | 337 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1019-i0 | 1019-i45 | 355 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1021-i0 | 1021-i45 | 400 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1023-i0 | 1023-i45 | 473 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1024-i0 | 1024-i45 | 488-515 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1025-i0 | 1025-i45 | 532 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1027-i0 | 1027-i45 | 589 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1029-i0 | 1029-i45 | 616 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1030-i0 | 1030-i45 | 633 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1031-i0 | 1031-i45 | 780 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1032-i0 | 1032-i45 | 800 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1033-i0 | 1033-i45 | 830 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1034-i0 | 1034-i45 | 852 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1037-i0 | 1037-i45 | 1064 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1039-i0 | 1039-i45 | 1320 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1045-i0 | 1045-i45 | 1550 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1047-i0 | 1047-i45 | 2000 | >99 | >99 | UVFS, Sapphire | 1.5 J/cm2 |
1049-i0 | 1049-i45 | 2100 | >99 | >99 | UVFS, Sapphire | 1.5 J/cm2 |
高反射率宽带涂层
镀膜型号 | 波长 | 反射率（％） | 推荐 | 损伤 | ||
AOI=0° |
|
|
| AOI=45° | 基材 | 阈值 |
1106-i0 | 1106-i45 | 220-250 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 in 10 ns |
1110-i0 | 1110-i45 | 260-340 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1114-i0 | 1114-i45 | 350-450 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1116-i0 | 1116-i45 | 420-680 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1130-i0 | 1130-i45 | 600-900 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1132-i0 | 1132-i45 | 720-880 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1133-i0 | 1133-i45 | 760-840 nm | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1142-i0 | 1142-i45 | 900-1100 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1144-i0 | 1144-i45 | 1100-1400 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序，质量控制评估以及对新技术的承诺，我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001：2015认证。 必维检验集团（Bureau Veritas）颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
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