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Eksma 高反射镀膜

简要描述:Eksma 高反射镀膜
多层介电高反射率(HR)镀膜是用于在AOI = 0°或45°时在特定的激光线波长处实现较高反射率的叠层。我们提供226 nm至2100 nm的HR激光线镀膜。

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-22
  • 访  问  量:32

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma 高反射镀膜




Eksma 高反射镀膜

介电多层高反射率镀膜是用于在AOI = 0°或45°时在特定的激光线波长处实现较大可能反射率的叠层。

产品介绍

多层介电高反射率(HR)镀膜是用于在AOI = 0°或45°时在特定的激光线波长处实现较高反射率的叠层。我们提供226 nm至2100 nm的HR激光线镀膜。

激光线高反射率镀膜适用于外部光束处理应用,在这些应用中,甚至可能会有很小的损失。

请发送带有镀膜和基材代码的定制产品请求,以获取报价。对于基材,请参阅我们的标准未镀膜激光窗口部分。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

高反射率激光线镀膜

镀膜型号

波长

反射率(%)

推荐

损伤

AOI=0°


AOI=45°


nm


AOI=0°

AOI=45°

基材

阈值

1007-i0

1007-i45

226

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1009-i0

1009-i45

248

>99

>99

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1011-i0

1011-i45

266

>99.5

>99

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1013-i0

1013-i45

308

>99.5

>99.2

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1015-i0

1015-i45

325

>99.5

>99.2

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1017-i0

1017-i45

337

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1019-i0

1019-i45

355

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1021-i0

1021-i45

400

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1023-i0

1023-i45

473

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1024-i0

1024-i45

488-515

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1025-i0

1025-i45

532

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1027-i0

1027-i45

589

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1029-i0

1029-i45

616

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1030-i0

1030-i45

633

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1031-i0

1031-i45

780

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1032-i0

1032-i45

800

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1033-i0

1033-i45

830

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1034-i0

1034-i45

852

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1037-i0

1037-i45

1064

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1039-i0

1039-i45

1320

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1045-i0

1045-i45

1550

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1047-i0

1047-i45

2000

>99

>99

UVFS, Sapphire

1.5 J/cm2
in 10 ns

1049-i0

1049-i45

2100

>99

>99

UVFS, Sapphire

1.5 J/cm2
in 10 ns

 

高反射率宽带涂层

镀膜型号

波长

反射率(%)

推荐

损伤

AOI=0°


AOI=45°


nm


AOI=0°

AOI=45°

基材

阈值

1106-i0

1106-i45

220-250

>99

>99

UVFS

1 J/cm2 in 10 ns

1110-i0

1110-i45

260-340

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1114-i0

1114-i45

350-450

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1116-i0

1116-i45

420-680

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1130-i0

1130-i45

600-900

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1132-i0

1132-i45

720-880

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1133-i0

1133-i45

760-840 nm

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1142-i0

1142-i45

900-1100

>99

>99

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1144-i0

1144-i45

1100-1400

>99

>99

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

 EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

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