Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圆形）

Eksma  FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圆形）

Eksma  FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圆形）

薄膜偏振片（圆形）将S和P偏振分量分开。 由于在800 nm，50 fsec时达到100 mJ / cm2的高损伤阈值，它们可以用作格兰激光偏振棱镜或立方偏振分光镜的替代产品。

产品介绍

Ø标准薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0％

Ø对于高消光比的薄膜偏振片，Tp> 98％，Ts <0.1％

Ø标准和高透射偏振片的消光比> 200：1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000：1（HE系列）

薄膜偏振片可分离S偏振和P偏振分量。由于在800 nm，50 fsec时达到100 mJ / cm2的高损伤阈值，薄膜偏振片可以用作格兰激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代产品。

薄膜偏振片用于高能激光器。它们可用于Yb：KGW / KYW或Ti：蓝宝石激光器的基本波长及其谐波或腔内Q开关释抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的有效方法是在布鲁斯特角-56°±2°且损耗较小。典型的水平偏振比Tp / Ts为200：1。

EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。

产品型号

高消光比的薄膜偏振片； UVFS; Tp> 98％，Ts <0.1％

高透射率薄膜偏振片； 紫外线FS; Ts <0.2％，Rp <0.2％

高透射率薄膜偏振片； 紫外线FS; Rs / Tp> 99.5 / 99.0％

标准薄膜偏振片； BK7; Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％

标准薄膜偏振片； UVFS; Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％

EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付

EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。