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| 品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma FEMTOLINE宽带激光扩束器
Eksma FEMTOLINE宽带激光扩束器
Femtoline宽带激光分束器，镀膜波长为720-880 nm或750-850 nm。激光损伤阈值：> 50 mJ / cm2，50 fsec脉冲，典型值为800 nm。
产品介绍
Ø在720-880 nm或750-850 nm镀膜
Ø专为S或P偏振而设计
Ø激光损伤阈值：> 50 mJ / cm2，50 fsec脉冲，典型800 nm
分束器将平均偏振激光束分成彼此分开90°的两束。
标准基板厚度为3mm。如果您需要更薄的基板，请从Precision Thin Round Windows中选择。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。
产品型号
波长范围-720-880 nm，设计用于S偏振
型号 | 材料 | 尺寸 | 波长 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
042-7708SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 8±1 % | 92±1 % | S-pol | 45° |
042-7720SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 20±5 % | 80±5 % | S-pol | 45° |
042-7730SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 30±5 % | 70±5 % | S-pol | 45° |
042-7740SB | UVFS | Ø25.4x3 mm | 720-880 nm | 40±5 % | 60±5 % | S-pol | 45° |
042-7750SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 50±5 % | 50±5 % | S-pol | 45° |
042-7760SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 60±5 % | 40±5 % | S-pol | 45° |
042-7770SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 70±5 % | 30±5 % | S-pol | 45° |
042-7780SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 80±5 % | 20±5 % | S-pol | 45° |
042-7790SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 90±3 % | 10±3 % | S-pol | 45° |
042-7795SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 95±2 % | 5±2 % | S-pol | 45° |
045-7708SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 8±1 % | 92±1 % | S-pol | 45° |
045-7720SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 20±5 % | 80±5 % | S-pol | 45° |
045-7730SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 30±5 % | 70±5 % | S-pol | 45° |
045-7740SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 40±5 % | 60±5 % | S-pol | 45° |
045-7750SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 50±5 % | 50±5 % | S-pol | 45° |
045-7760SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 60±5 % | 40±5 % | S-pol | 45° |
045-7770SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 70±5 % | 30±5 % | S-pol | 45° |
045-7780SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 80±5 % | 20±5 % | S-pol | 45° |
045-7790SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 90±3 % | 10±3 % | S-pol | 45° |
045-7795SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 95±2 % | 5±2 % | S-pol | 45° |
波长范围-750-850 nm，设计用于P偏振
型号 | 材料 | 尺寸 | 波长 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
042-7710PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 10±2 % | 90±2 % | P-pol | 45° |
042-7720PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 20±5 % | 80±5 % | P-pol | 45° |
042-7725PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 25±5 % | 75±5 % | P-pol | 45° |
042-7730PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 30±5 % | 70±5 % | P-pol | 45° |
042-7740PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 40±5 % | 60±5 % | P-pol | 45° |
042-7750PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 50±5 % | 50±5 % | P-pol | 45° |
042-7760PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 60±5 % | 40±5 % | P-pol | 45° |
042-7770PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 70±5 % | 30±5 % | P-pol | 45° |
042-7775PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 75±5 % | 25±5 % | P-pol | 45° |
042-7780PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 80±5 % | 20±5 % | P-pol | 45° |
042-7785PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 85±3 % | 15±3 % | P-pol | 45° |
042-7790PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 90±3 % | 10±3 % | P-pol | 45° |
042-7795PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 95±2 % | 5±2 % | P-pol | 45° |
045-7710PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 10±2 % | 90±2 % | P-pol | 45° |
045-7720PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 20±5 % | 80±5 % | P-pol | 45° |
045-7725PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 25±5 % | 75±5 % | P-pol | 45° |
045-7730PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 30±5 % | 70±5 % | P-pol | 45° |
045-7740PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 40±5 % | 60±5 % | P-pol | 45° |
045-7750PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 50±5 % | 50±5 % | P-pol | 45° |
045-7760PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 60±5 % | 40±5 % | P-pol | 45° |
045-7770PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 70±5 % | 30±5 % | P-pol | 45° |
045-7775PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 75±5 % | 25±3 % | P-pol | 45° |
045-7780PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 80±5 % | 20±5 % | P-pol | 45° |
045-7785PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 85±3 % | 15±3 % | P-pol | 45° |
045-7790PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 90±3 % | 10±3 % | P-pol | 45° |
045-7795PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 95±2 % | 5±2 % | P-pol | 45° |
基材
材料 | 紫外级熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm时为λ/ 10 |
S1表面质量 | 20-10表面光洁度（MIL-PRF-13830B） |
S2表面平整度 | 633 nm时为λ/ 10 |
S2表面质量 | 20-10表面光洁度（MIL-PRF-13830B） |
直径公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值为0.3mm |
镀膜
技术 | 电子束多层电介质 |
附着力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过中心直径的85％ |
入射角 | 45±3° |
背面防反射镀膜 | R <0.5％ |
激光损伤阈值 | > 50 mJ / cm2，50 fsec脉冲，典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
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